El 6 de febrero 2019 la Oficina Española de Patentes y Marcas (OEPM) ha publicado sus nuevas Directrices de Examen para Patentes, Modelos de Utilidad, Topografías de Semiconductores y Diseños Industriales. Son las más completas publicadas hasta el momento y cubren las distintas modalidades de protección para invenciones y diseños. Las directrices serán muy útiles para los solicitantes y sus representantes para la presentación, tramitación y concesión de estas modalidades de Propiedad Industrial ya que permitirán homogeneizar la práctica aplicada por la OEPM y sus examinadores y entender mejor los criterios aplicados. Es de agradecer la vocación de servicio y transparencia de la OEPM, y su adaptación a los sectores tecnológicos, presentes y futuros.
Puedes encontrar las directrices de examen aquí.
